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マクセル---半導体洗浄用途に適した、水素ガス発生装置の受注開始
2025/04/11 15:17
*15:17JST マクセル---半導体洗浄用途に適した、水素ガス発生装置の受注開始
マクセル<6810>は9日、半導体製造設備向けの水素ガス発生装置「HGU-36EN」の受注を4月初旬から開始したと発表した。
本製品は、半導体製造の国際業界基準であるSEMI規格に準拠しており、EUの安全・健康・環境保護基準に適合するCEマークを表示するほか、欧州RoHS指令にも適合した環境配慮型製品である。
「HGU-36EN」は、異常検出に関する7つのアラーム機能を備えた安全に配慮した機器設計となっている。また電磁波干渉についても対策している。発生した水素を超純水に溶かした半導体洗浄用水素水、シリコンウェハー、液晶基板、フォトマスク基板の洗浄に用いられる。これにより、微粒子の除去、再付着防止、酸化被膜生成の防止が可能となり、薬品やリンス用超純水の使用量を抑えることで洗浄コストと環境負荷の削減が図れる。
マクセルは今後も、使用用途に応じた水素ガス発生装置の開発を進め、市場ニーズへの対応と持続可能な社会の実現に貢献するとしている。
＜AK＞
マクセル<6810>は9日、半導体製造設備向けの水素ガス発生装置「HGU-36EN」の受注を4月初旬から開始したと発表した。
本製品は、半導体製造の国際業界基準であるSEMI規格に準拠しており、EUの安全・健康・環境保護基準に適合するCEマークを表示するほか、欧州RoHS指令にも適合した環境配慮型製品である。
「HGU-36EN」は、異常検出に関する7つのアラーム機能を備えた安全に配慮した機器設計となっている。また電磁波干渉についても対策している。発生した水素を超純水に溶かした半導体洗浄用水素水、シリコンウェハー、液晶基板、フォトマスク基板の洗浄に用いられる。これにより、微粒子の除去、再付着防止、酸化被膜生成の防止が可能となり、薬品やリンス用超純水の使用量を抑えることで洗浄コストと環境負荷の削減が図れる。
マクセルは今後も、使用用途に応じた水素ガス発生装置の開発を進め、市場ニーズへの対応と持続可能な社会の実現に貢献するとしている。
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